選擇產(chǎn)品分類
工業(yè)設(shè)備
高速乳化機(jī)
高速均質(zhì)機(jī)
研磨分散機(jī)
高速膠體磨
高速分散機(jī)
研磨機(jī)
濕磨機(jī)
濕法粉碎機(jī)
粉液混合機(jī)
攪拌機(jī)
真空乳化機(jī)
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
研發(fā)設(shè)備
實(shí)驗(yàn)室中試設(shè)備
高速乳化機(jī)
在線線速度61m/s四級(jí)高速乳化機(jī)
在線線速度61m/s四級(jí)高速乳化機(jī)是高效、高速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度#到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子#速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。
高速均質(zhì)機(jī)
均質(zhì)機(jī)ERX4000
四級(jí)在線式超高速均質(zhì)機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,IKN在ERS4000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出ERX4000超高速剪切均質(zhì)機(jī)。其剪切速率可以過(guò)15000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以#到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度高,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。
高速分散機(jī)
在線式四級(jí)超高剪切超高速分散機(jī)
ERX4000系列是一種在線式四級(jí)超高剪切超高速分散機(jī),以達(dá)到超細(xì)的乳液和懸浮液。極高的剪切速率(高達(dá)410.000 1/S)與分散頭的精密幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合能使液滴和固體顆粒粉碎到納米級(jí)。由此產(chǎn)生的物料,具有長(zhǎng)期的穩(wěn)定性。從而減少了對(duì)乳化劑和增稠劑的需要。由于極高的能量密度,就能減少使用或甚至不需要使用其他的分散助劑。
真空乳化機(jī)
乳化機(jī)MP系列
MP系列適用于需要在真空狀態(tài)下乳化攪拌的產(chǎn)品。可配置高剪切乳化機(jī)使用,該設(shè)備的核心是依肯EBI2000系列,該系列設(shè)備直接和預(yù)混罐安裝在一起,有2級(jí)設(shè)計(jì),擁有更多的功能和靈活性。適合分散、乳化、均質(zhì)、攪拌混合等工藝過(guò)程。能夠確保產(chǎn)品的最終質(zhì)量,并且極大縮短生產(chǎn)時(shí)間。
高速膠體磨
膠體磨CM2000
CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
高速膠體磨
膠體磨CMO2000
CMO2000系列錐體磨(膠體磨),它的創(chuàng)新設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新,CMO2000系列錐體磨(膠體磨)能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小,錐體磨(膠體磨)的研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
高速膠體磨
膠體磨CMD2000
CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
高速膠體磨
膠體磨CMSD2000
CMSD系列,采用德國(guó)技術(shù),設(shè)備轉(zhuǎn)速可高達(dá)14000rpm,是國(guó)產(chǎn)設(shè)備的4-5倍;磨頭結(jié)構(gòu)為三級(jí)錯(cuò)齒,溝槽深度從上到下為由深到淺,溝槽的寬度也是從上到下為由大到小,這樣每級(jí)都會(huì)對(duì)物料更進(jìn)一步的研磨粉碎。而國(guó)產(chǎn)膠體磨從上到下的寬度都是*的,所以研磨粉碎的效果很有限。IKN膠體磨采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并配有機(jī)密冷卻系統(tǒng),在確保冷卻水的情況下,可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)。
高速膠體磨
膠體磨CMXD2000
CMXD系列采用圓椎形定轉(zhuǎn)子,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。