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CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMO2000實在CM2000基礎上的進一步優化產品，有著更新的技術創新。錐形刀具間隙可調節至最小，來減小顆粒粒徑，從而可獲更細的懸浮液。由于這項創新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小。 錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。

研磨分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產品，第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品，CMSD系列的線速度很高，剪切間隙非常小，凹槽在每級都可以改變方向；同時，高質量的表面拋光和結構材料可滿足不同行業的多種要求。

CMXD2000系列定轉子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽，同時，每級凹槽都可以改變方向。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液生產。采用最佳幾何結構的研磨定轉子，可以滿足不同行業的需求，同時，三級錯齒的研磨轉子，配合精密的定子腔，可以達到更好的分撒濕磨效果。

CMO2000，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步，夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小，夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。

CMD2000系列的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒)，所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。CMD2000系列的線速度也很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，可以滿足不同行業的多種要求。

CMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。