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研磨分散機
分散機CM2000
CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
研磨分散機
分散機CMO2000
CMO2000實在CM2000基礎上的進一步優化產品,有著更新的技術創新。錐形刀具間隙可調節至最小,來減小顆粒粒徑,從而可獲更細的懸浮液。由于這項創新,CMO2000系列錐體磨(膠體磨)能夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小。 錐體磨(膠體磨)的研磨間隙可以無級調節,從而可以得到精確的研磨參數。
研磨分散機
分散機CMD2000
研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品,第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
研磨分散機
分散機CMSD2000
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品,CMSD系列的線速度很高,剪切間隙非常小,凹槽在每級都可以改變方向;同時,高質量的表面拋光和結構材料可滿足不同行業的多種要求。
研磨分散機
分散機CMXD2000
CMXD2000系列定轉子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,同時,每級凹槽都可以改變方向。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
濕磨機
濕磨機CM2000
CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液生產。采用最佳幾何結構的研磨定轉子,可以滿足不同行業的需求,同時,三級錯齒的研磨轉子,配合精密的定子腔,可以達到更好的分撒濕磨效果。
濕磨機
濕磨機CMO2000
CMO2000,它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步,夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小,夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節,從而可以得到精確的研磨參數。
濕磨機
濕磨機CMD2000
CMD2000系列的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。CMD2000系列的線速度也很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,可以滿足不同行業的多種要求。
濕磨機
濕磨機CMSD2000
CMSD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。